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超純水機中二氧化硅的存在形式及去除方法
1、水中硅的總量主要包括活性硅和膠體硅?;钚怨枋强扇芄?,因為它是弱離子化的,不會聚合成長鏈,而活性硅是超純水處理系統中的理想形態,因為它容易去除,去除率高,一般TDS中都含有活性硅;以鹽的形式存在于系統中;膠體硅通常以聚合物的形式存在。RO系統雖然有一定的去除率,但可能會造成RO前段堵塞和膠體污染。膠體硅的最小直徑可以小到0.008um,但只有大于0.45um才能用SDI測量。
2、二氧化硅是某種形式的陰離子,但其化學成分復雜,甚至不可預測。這里好像TOC含量只能代表有機質含量,不能代表表層有機質組成。硅濃度也是如此
3、硅濃度的去除率與PH值有很大關系,隨著PH值的增加,去除率增加,因為活性硅以鹽的形式存在,而不是酸。